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行業(yè)知識-> 水質(zhì)指標-> 中華人民共和國機械行業(yè)標準電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水

中華人民共和國機械行業(yè)標準電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水

                                        JBT 7621--94  
                             
機械工業(yè)部.1994-12-09批準 1995—O6—O1實施
1 主題內(nèi)容與通用范圍 
 
本標準給出了電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水(以下稱高純水)的級別、技術(shù)要求、測試方法和規(guī)則。 
 
本標準適用于去離子處理后的高純水。 
2
引用標準 
 GB11446
電子級水及其檢測方法
3
術(shù)語 
3
1 電導(dǎo)率electrical conductivityctricalconduc2ivity 
 
在規(guī)定溫度下,1cm3水溶液兩相對面之間測得的電阻值的倒數(shù)。電導(dǎo)率通常以μS/cm為單位。水的理論電導(dǎo)率為0.0548μs/cm(25℃)
3
2電阻率 resistivity 
 
電導(dǎo)率之倒數(shù)。純水的理論電阻率為18.3MΩ.cm(25℃)。溫度升高時電阻率下降。
3
3顆粒性物質(zhì)granular sulbstance 
 
除氣體以外,以非液態(tài)形式分散在水中,并形成非均勻相混合物的物質(zhì)。
3
4總有機碳(TOC)total organic carbon 
 
水中以各種有機物形式存在的碳的總量。包括易被般強氧化劑氧化的有機物和需用特殊化的有機物。
3
5總固體 total solid 
 
水樣蒸發(fā)、烘干后殘留的固總量。
3. 6
全硅 total silicon 
 
水中可溶性硅和以二氧化硅膠體狀態(tài)存在的硅的總量。全硅和可溶性硅之差即叫為膠體硅。
3
7高純水high-pure water, ultrapure water
電阻率在5MΩ·cm以上,各種形式存在的物質(zhì)含量有一定規(guī)定限制的很純凈水 

3
8原水raw watcr 
 
純化處理之前的水。常用的原水將自來水、井水、河水等。
3
9終端 terminal 
 
高純水生產(chǎn)流程中經(jīng)過各道沖化工藝后,水的出口使用地點。可分別稱為制水終端和用水
3
10微量micro-amount 
 
試樣量在1mg左右。
3
11 痕量 trace amount
 
試樣量在1μg左右。
3
12百萬分之一(ppm) part per million 
重量比的量,相當于每百萬重量的溶液中含一單位重量的溶質(zhì)。在水質(zhì)分析中,一殷也認為相當每升水樣含雜質(zhì)的毫克數(shù)(mgL)
3
13十億分之一(ppb)part per billion
重量比的單位,相當于每十億重量單位重量的溶液中含一單位重量的溶質(zhì),在水質(zhì)分折中,一般認為相當于短升水樣含雜質(zhì)的微克數(shù)(μgL)

4
高純水的級別 
4
1高純水可分為電子級高純水和普通高純水,分別用符號EHpH標志
4. 2
電子級高純水
4
21在制造工藝中使用電子級高純水的電力半導(dǎo)體器件有如下特點:
a
.具有精細圖形結(jié)構(gòu);
b
.對器件表面有特殊要求;
c
.工藝對水質(zhì)有特定的嚴格要求。
4
22電子級高純水分為兩個級別:特級和I級。它們的標志分別是:
特級電子級高純水:EH—T
一級電子級高純水:EH—1
4
3普通高純水
4
31普通高純水用于一般電力半導(dǎo)體器件的制造工藝中。
4
32普雙高純水分為三個級別:級、級和級。它們的標志分別是:
I
級普通高純水:pH—Ⅰ
x
級普通高純水:PH—Ⅱ
m
級普通高純水:pH—Ⅲ
4. 4
電阻率低于5MΩ·cm的水不能稱為高純水。

5
技術(shù)要求
51電子級高純水
5
11電子級高純水應(yīng)考核四項內(nèi)容:
a.
水中自由離子濃度(主要影響電阻率)
b
.水中懸浮微粒的數(shù)量和大小;
C.
水中有機物總量;
d.
水中細菌微生物狀況。
5. 1. 2
電子級高純水的各項技術(shù)指標由表1給出。
l

指    標 

級 別 

EH— T

 EH-I

電阻率,MΩ·cm(25℃) 

18 (90%時間)
最小
17

16~18 (90%時間)
最小
15

大于1μm微粒數(shù).個/mL

1

1

 大于05um微被數(shù)
(
最大值),個/
mL

100 

150

 細菌個數(shù),個/mL

 

1

 總有機碳含量(最大值)μgL

50

100

全硅(最大值)μgL

2

10

氯含量(最大值)μg

0.5

2

鉀含量(最大值)μg

0.2

1

鈉含量(顯大值)μgL

0.2

1

鈣含量(最大值)μgL

0.5

1

鋁含量(最大值)μgL

0.5

1

銅含量(最大值)μgL

0.1

1

總可溶性固體含量(最大值)μg

3

10

52普通高純水 
5
21普通高純水主要考核其電阻率。 
5
22普通高純水的技術(shù)指標由表2給出。 
 

指   標

級   標

PH-Ⅰ

PH-Ⅱ

PH-Ⅲ

電阻率(25℃)cm

12-15

8~<12

5~<8

大于lμm的微粒數(shù),個/mL

<50

總有機碳含量,μg

<500

全硅,μgL

<100

6測試方法和檢驗規(guī)則 
6
1電阻率測試方法 
6
11用電導(dǎo)率儀測量高純水電阻率時: 
 a
.電導(dǎo)池常數(shù)選川0.1—0.01cm-1 
 b
.被測高純水應(yīng)處于密封流動狀態(tài),避免任何氣體混入,流速不低于03m/s
6
12t℃時測得的電阻率值ρt,用下式換算成25℃的電阻率ρ25 
    ρ25=1/{αt(1/ρt-Gt)+0.05482}
式中:ρ25——25時的電阻率MΩ.CM
   ρt——t℃時的電阻率MΩ.CM
   Gt——t℃時理論純水的電導(dǎo)率μS/CM,其值見附錄A;
   αt——t℃時修正系數(shù),其值見附錄A;
   0.05482——t℃時理論純水的電導(dǎo)率μS/CM。
6.2其他技術(shù)指標測量方法
  執(zhí)行GB11446.5~11446.11中有關(guān)規(guī)定。
6
.3檢驗規(guī)則
6
31各個級別高純水的電阻率為經(jīng)常必測項目。
6
32對電子級高純水,用水單位還應(yīng)根據(jù)生產(chǎn)要求制定對微粒數(shù)、痕量金屬、細菌、有機物及二氧化硅等各項技術(shù)指標的檢驗規(guī)則。
6
33制水工藝條件改變時,應(yīng)及時對表1或表2中各項技術(shù)指標全面檢驗。
6
34所有測量均應(yīng)在制水終端和用水點兩處測量。制水終端水的質(zhì)量稱為制水水質(zhì);用水點水的質(zhì)量稱為用水水質(zhì)。對普通高純水,用水水質(zhì)和制水水質(zhì)應(yīng)在同一級別上。對電子級高純,主要檢驗用水水質(zhì),但應(yīng)給出制水水質(zhì)作參考。制水水質(zhì)還用于檢驗制水設(shè)備和技術(shù)。
6
4檢驗標志
在高純水制水終端和用水點按要求進行檢驗后,若水質(zhì)合格,應(yīng)附標有下列內(nèi)容的檢驗合格證:
  a.高純水的級別標志;
  b.要求檢測的技術(shù)指標及測量結(jié)果;
  c. 制水單位;
  d.連續(xù)供水開始日期(普通高純水可無此項)
  e.檢驗員簽章及檢驗日期。

7
取樣、存貯和運輸
7. 1.
高純水的取樣
7
11盛水容器必須使用塑料或硬質(zhì)玻璃容器。用于測定硅或分析痕量成分時。必須使用聚乙烯等塑料容器。
7
12取樣前,盛水容船應(yīng)預(yù)先用洗滌劑清洗干凈,再用鹽酸(11)10%硝酸溶液浸泡48H(分析陰離子用的容器除外),然后用高純水沖洗干凈,再用高純水浸泡不少于6h。臨取樣時,用待測高純水沖洗容器小少于10次、方可取樣。
7
13采集水樣時,應(yīng)先把管道中的積水放盡,并沖放5—10min,在流動狀態(tài)取樣。以保證水樣有充分的代表性。
7
14取樣的體積約為容器體積的0.6—0.8,不得太滿。取樣后。應(yīng)迅速把容器蓋嚴。
7
1. 5細菌分析采樣容器必須經(jīng)過高溫消毒處理。
7
2 高純水的貯存與運輸
7
21分析高純水中的陽、陰離子時,采集的水樣可存放72H。細菌檢驗時,水樣存放時間不得大于4H
7
22高純水在貯存和運輸時,應(yīng)檢查容器益是否密封嚴密。裝有水樣的容器不能在太陽下曝曬或放在高溫處。冬天要注意防凍。
7. 2
3高純水在貯存和運輸過程中;應(yīng)定時記錄時間、溫度和氣候條件等。

 

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